CVRxが高血圧治療用の最新埋め込み型デバイスにオン・セミコンダクターを選択
2012/05/28オン・セミコンダクタ
企業/市場動向
専門技術の融合により、第2世代低消費電力埋め込み型デバイスCVRx Barostim neo™の開発サイクルを加速
2012年5月28日
アリゾナ州フェニックス – 2012年5月28日 – エネルギー効率の高い電子機器のための高性能シリコン・ソリューションを提供する最先端のサプライヤーであるオン・セミコンダクター(Nasdaq: ONNN)は本日、独自の高血圧治療用能動埋め込み技術で市場をリードする開発企業CVRxが、オン・セミコンダクターの技術と製造サービスを使用していることを明らかにしました。CVRxは同社の第2世代埋め込み型高血圧治療デバイスであるBarostim neo™をヨーロッパで発売しました。
オン・セミコンダクターの多様な医療用アプリケーション向けアナログ、デジタルおよびミックスドシグナル 半導体ソリューションの設計および製造における豊富な経験は、CVRxが広範な量産試作試験時に要求される信頼性およびデバイス性能を達成するのに役立ちました。またオン・セミコンダクターのデザイン・キットや知的財産の使用、そしてレイアウト・サービスやファンダリ・サービスの利用、開発サイクルの短縮が可能です。
Barostim neoはオン・セミコンダクターのデバイスを3個内蔵しています。2個のカスタム特定用途向け集積回路(ASIC)は、高電圧アナログC5プロセスのデバイスとオン・セミコンダクターのI3Tプロセスを使用して製造されたデジタル制御ASICが含まれ、ミックスド・アナログおよびスマート・パワー高電圧構造を組み合わせて、デジタル集積化をサポートしています。また、コンパクトなBarostim neoには、オン・セミコンダクターの8メガビット医療用メモリASSPも搭載されています。3個のデバイスはすべて低消費電力で動作し、埋め込み型医療用デバイスの重要な要件である長期動作寿命をサポートします。
CVRx, Inc.の研究・開発および事業担当副社長Joe DuPay氏は、次のように語っています。「当社が高血圧治療用の最新埋め込みデバイスの開発にオン・セミコンダクターを選択したことによって、多くのメリットが得られました。」 「当社独自の中核をなす専門知識と、要求の厳しい医療用半導体市場におけるオン・セミコンダクターの知識、経験および製品寿命に対するサポートを融合させることにより、非常に低消費電力で高信頼性な設計に最高の基準を設定しながらも製品開発サイクルを短縮しました。」
CVRxについて
CVRx, Incは米国ミネアポリスに本社を置く民間企業です。高血圧および心不全治療用のBarostim neoを開発しました。詳細については、www.cvrx.comをご覧ください。
オン・セミコンダクターについて
オン・セミコンダクター(ON Semiconductor, Nasdaq: ONNN)は、エネルギー効率の高い電子機器のための高性能シリコン・ソリューションを提供する最先端のサプライヤーです。オン・セミコンダクターの電源および信号管理、ロジック、ディスクリートおよびカスタム・デバイスの広範なポートフォリオは、自動車、通信、コンピューティング、民生用、産業用、LED照明、医療、軍事/航空宇宙および電源アプリケーションにおける設計上の課題を効率的に解決するのに役立ちます。オン・セミコンダクターは、北米、ヨーロッパ、およびアジア太平洋地域の主要市場で、世界クラスの付加価値を提供するサプライ・チェーンおよび製造施設、営業所、デザイン・センターのネットワークを運営しています。詳細については、http://www.onsemi.jpをご覧ください。
オン・セミコンダクターおよびオン・セミコンダクターのロゴは、Semiconductor Components Industries, LLCの登録商標です。本ドキュメントに記載されている、それ以外のブランド名および製品名はすべて、各所有者の登録商標または商標です。オン・セミコンダクターは、本ニュース・リリースで同社Webサイトを参照していますが、Webサイト上の情報はここには記載されていません。
企業HP:
http://www.onsemi.com
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